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半导体生产车间空气净化解决方案_高精密仪器车间18新利下载选择

www.clean-link.cn
2019-10-09

通过用于高级半导体制造的完整解决方案来提高工艺良率。

在半导体生产车间中,微污染会带来巨大的问题。18新利官网登录手机版提供了广泛的解决方案-颗粒预过滤器,HEPA和ULPA过滤器以及AMC控制解决方案-可以将无尘室中的颗粒物和分子浓度降低到颗粒物的ISO 1级水平和AMC的亚ppb水平。

AMC过滤器和控制比无尘室过滤更重要

空气传播的分子污染(AMC)对小尺寸半导体制造提出了特殊挑战。酸,碱,有机物,耐火材料和掺杂剂的不良化学反应会影响晶片表面和工艺设备的光学器件,从而在芯片生产过程中产生缺陷,并降低设备和工具的效率。

在关键的洁净室制造过程中,AMC越来越重要。随着规格要求的提高和设备尺寸的缩小,过程控制面临巨大的压力。晶圆可以在工厂内呆上一个月的时间,在交付最终产品之前要经过数百个过程。该工艺链中任何微小的污染影响都可能对晶圆厂的整体成品率造成严重影响。

另一个挑战在于更大尺寸的晶圆的普遍化,这增加了单个晶圆的成本,并增加了在工具级别对纳米颗粒和AMC保护的需求。此外,EUV和多图案DUV光刻中使用的无缺陷掩模的成本不断上涨,这给设施以及小型环境(如检查设备和掩模库存机)的污染控制系统带来了压力。

保护您的工艺设备和晶圆免受纳米颗粒和空气中的分子污染物的侵害

18新利官网登录手机版解决方案在半导体制造环境中提供了经过现场和实验室验证的保护,包括光刻,蚀刻,扩散,金属化,薄膜,离子注入,检查工具以及标线片或晶圆存储区。

工艺工具空气滤清器

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扫描仪预过滤系统

设施系统的节能高效排气解决方案

广州18新利官网登录手机版的颗粒物预过滤器系列可确保在补充空气处理机组中使用最低的能量,同时防止HEPA过滤器堵塞并且不释放硼。经过多年的胶粘剂和介质化学性能的发展,18新利官网登录手机版的HEPA和ULPA过滤器旨在释放出尽可能少的有机污染物(所谓的低放气)。用于晶圆切割的排气系统以及用于通用排气备用系统的气体洗涤器可以保护环境免受工艺污染。

无硼合成预滤器

低能量预过滤器

低放气的HEPA和ULPA过滤器

灰尘收集器和气体洗涤器,可产生更清洁的废气

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